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2024年5月30日星期四 23时37分39秒

专心研究，精心制作，谋求高品质发展

Focus on researching,Elaborately making, seeking high quality development.

专心研究，精心制作

谋求高品质发展

UV减粘型保护膜系列2

应用范围:以PO或PET为基材通过涂布交联光固化亚克力胶制成高洁净度光学类UV解胶型保护膜，产品广泛应用于半导体硅晶圆切割、研摩、IC封装切割、PCB切割、玻璃蚀刻制程保护。

1.产品型号:HC-D309、 HC-D359等等

2.基础材料:PO或、光固化亚克力胶

3.粘度范围:UV前：200-1200gf/25mm UV后：20-30gf/25mm

4.厚度范围:90~180㎛

5.应用范围:以PO或PET为基材涂布交联光固化亚克力胶制成高洁净度光学类UV解胶型，产品广泛应用于半导体硅晶圆切割、研摩、IC封装切割、PCB切割、玻璃蚀刻制程保护。

1.产品型号:HC-D309、 HC-D359等等

2.基础材料:PO或、光固化亚克力胶

3.粘度范围:UV前：200-1200gf/25mm UV后：20-30gf/25mm

4.厚度范围:90~180㎛

5.应用范围:以PO或PET为基材涂布交联光固化亚克力胶制成高洁净度光学类UV解胶型，产品广泛应用于半导体硅晶圆切割、研摩、IC封装切割、PCB切割、玻璃蚀刻制程保护。

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